आणविक आसवन पृथक्करण के सिद्धांत के अनुसार, आणविक आसवन पृथक्करण मुख्य रूप से प्रकाश अणुओं और भारी अणुओं के बीच आणविक माध्य मुक्त मार्ग में अंतर पर निर्भर करता है। इसी समय, प्रकाश के अणुओं को अलग किया जाना चाहिए जो पृथक्करण प्रक्रिया के दौरान बचकर आसानी से ठंडा होकर प्राप्त किया जा सकता है। हल्के पुनर्चक्रण, इसलिए आणविक आसवन प्रौद्योगिकी में निम्नलिखित बुनियादी विशेषताएं हैं:
(१) यौगिक के क्वथनांक से दूर क्रायोजेनिक आसवन। पारंपरिक आसवन तकनीक मुख्य रूप से पृथक्करण के लिए यौगिकों के बीच क्वथनांक में अंतर पर निर्भर करती है। इसलिए, कुशल पृथक्करण प्राप्त करने के लिए, अलग किए जाने वाले यौगिक को उबलने की स्थिति में होना चाहिए। इसलिए, पारंपरिक आसवन प्रौद्योगिकी की पृथक्करण प्रक्रिया अपेक्षाकृत अधिक होनी चाहिए। उच्च तापमान। आणविक आसवन पृथक्करण प्रौद्योगिकी यौगिक के आणविक गति के मध्य मुक्त पथ में अंतर पर निर्भर करती है। उच्च वैक्यूम आसवन प्रक्रिया न केवल यौगिक के पूर्ण बिंदु को कम कर सकती है, बल्कि यौगिकों के बीच औसत मुक्त पथ में अंतर को और भी बढ़ा सकती है, इसलिए आसवन प्रक्रिया कम तापमान पर कुशल आसवन हो सकती है।
(2) अल्ट्रा-लो प्रेशर के तहत आसवन। सैद्धांतिक आणविक आसवन पृथक्करण प्रक्रिया 0.01Pa और 0.1Pa के बीच होती है। अल्ट्रा-लो डिस्टिलेशन प्रेशर यौगिकों के आणविक गति के औसत मुक्त पथ को बढ़ा सकता है, जिससे यौगिकों के बीच औसत मुक्त पथों में अंतर का विस्तार किया जा सकता है, ताकि कुशल पृथक्करण प्राप्त किया जा सके। पारंपरिक आसवन प्रौद्योगिकी ज्यादातर पॉट आसवन है। अलग किए जाने वाले यौगिक को पहले उबलते बिंदु पर गैस में वाष्पीकृत किया जाता है। गैसीय यौगिक एक पूरे के रूप में एक वैक्यूम पंप की कार्रवाई के तहत बाहर पंप किया जाता है, और कंडेनसर के माध्यम से बहने पर इसे संघनित किया जा सकता है। कंडेनसर और वाष्पीकरण सतह के बीच की दूरी बहुत लंबी है, जिससे यह खंड बन जाता है
के बीच की दूरी गैसीय यौगिकों से भरी है, इसलिए वाष्पीकरण तरल स्तर पर दबाव को कम करना मुश्किल है। आणविक आसवन प्रौद्योगिकी के लिए, क्योंकि कंडेनसर और वाष्पीकरण सतह को बहुत करीब से व्यवस्थित किया जाता है, एक बार यौगिक को अलग किया जा सकता है और इससे बच जाता है, यह तुरंत संघनित होता है। इसलिए, कंडेनसर और बाष्पीकरण सतह के बीच गैसीय यौगिक का आंशिक दबाव बहुत कम है। कम दबाव पर यौगिक पृथक्करण।
(3) तेज और कुशल जुदाई। आणविक आसवन की प्रक्रिया में, अलग किया जाने वाला यौगिक विभाजक शरीर के ऊपरी हिस्से से बहता है और निचले हिस्से से बहता है। बाष्पीकरणकर्ता की सतह पर, अलग किए जाने वाले परिसर में फिल्म बनाने वाले भाग की कार्रवाई के तहत लगभग 2 मिमी की मोटाई के साथ एक तरल फिल्म बनाई जाएगी। तरल फिल्म की तरह आसवन यौगिक के कुशल भागने के लिए अलग करने के लिए अनुकूल है। इसी समय, आणविक आसवन पृथक्करण प्रक्रिया में, संघनन सतह और वाष्पीकरण सतह एक दूसरे के करीब व्यवस्थित होते हैं, ताकि अलग होने पर यौगिक को जल्दी से संघनित किया जा सके क्योंकि यह बच जाता है, इस प्रकार गर्मी के निवास समय को कम कर देता है- संवेदनशील यौगिक को उच्च तापमान पर अलग किया जाना चाहिए, जो यौगिक की विशेषता रखने के लिए अनुकूल है। सामान्य तौर पर, आणविक आसवन तकनीक न केवल यौगिक के निवास समय को हीटिंग सतह पर अलग करने के लिए कम कर सकती है, बल्कि उच्च तापमान वाले गैसीय निवास समय को वाष्पशील और संक्षेपण के भागने के बीच भी छोटा कर सकती है।